外焦平面阵列固有的非均匀性严重地制约着其成像系统的成像质量，必须对其进行补偿校正。在深入地研究了非均匀性的各种来源厦其表现形式的基础上，论述了校正原理，并提出了一种普遍适用的测量方法。
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